بررسی اجمالی محصول
اکسیژن{0} با خلوص بالا یک گاز صنعتی و تخصصی حیاتی است که با سطوح بسیار کم ناخالصی آن برای برآوردن نیازهای سختگیرانه تولید پیشرفته، الکترونیک و تحقیقات علمی مشخص می شود. بر خلاف اکسیژن صنعتی استاندارد، اکسیژن با خلوص بالا تحت فرآیندهای تصفیه اضافی برای حذف آلاینده‌های کمیاب مانند رطوبت، هیدروکربن‌ها، نیتروژن و گازهای نجیب قرار می‌گیرد. این خلوص استثنایی برای کاربردهایی ضروری است که حتی ناخالصی های بسیار جزئی می توانند کیفیت محصول، کارایی فرآیند یا یکپارچگی آزمایشی را به خطر بیندازند. عرضه مطمئن اکسیژن با خلوص بالا برای نوآوری در بخش‌های{4}فناوری بالا و مراقبت‌های بهداشتی حیاتی، اساسی است.
اطلاعات پایه
| شماره CAS | 7782-44-7 |
| شماره سازمان ملل | UN1072 (اکسیژن، فشرده) یا UN1073 (اکسیژن، مایع یخچالی) |
| فرمول مولکولی | O₂ |
| طبقه بندی خطر | 2.2 (گاز غیر قابل اشتعال، اکسید کننده) |
ویژگی ها و پارامترهای کلیدی
| خلوص | در گریدهایی مانند 99.5٪ (درجه 3.0)، 99.9٪ (درجه 4.0)، 99.995٪ (درجه 4.5) و تا 99.9999٪ (درجه 6.0) و بالاتر برای استفاده های خاص موجود است. |
| مشخصات ناخالصی کلیدی |
رطوبت (H2O): به اندازه<0.5 ppmv (for 6.0 grade) کل هیدروکربن ها (THC): به کمتر از<0.1 ppmv (as CH₄) نیتروژن (N2):<5 ppmv آرگون (Ar):<1 ppmv دی اکسید کربن (CO2):<0.1 ppmv |
| وضعیت فیزیکی | گاز بی رنگ، بی بو، بی مزه؛ همچنین به عنوان مایع برودتی (LOX) برای تحویل فله عرضه می شود. |
| تحویل و بسته بندی | در سیلندرهای فشار قوی-، بسته‌های سیلندر، تریلرهای لوله‌ای، یا به صورت مایع حجیم در مخازن برودتی موجود است. |
ویژگی ها و مزایا
سطوح آلاینده فوق العاده-پایین
تصفیه دقیق حداقل گازهای ردیابی، رطوبت و ذرات معلق را تضمین می کند و از آلودگی در فرآیندهای حساس جلوگیری می کند.
کنترل فرآیند و بازده پیشرفته
اکسیژن ثابت و با خلوص{0} بالا واکنش‌های اکسیداسیون، احتراق یا سنتز دقیق را ممکن می‌سازد، که منجر به کیفیت برتر محصول، بازده بالاتر و کاهش نقص در تولید نیمه‌رسانا و شیشه می‌شود.
حیاتی برای فناوری های پیشرفته
برای فرآیندهایی که خلوص استاندارد اکسیژن کافی نیست، مانند سنتز پیش‌فرم فیبر نوری، تولید سلول‌های خورشیدی با راندمان بالا، و متالورژی پیشرفته ضروری است.
ایمنی و سازگاری برتر
مطابق با استانداردهای بین المللی (به عنوان مثال، ISO، SEMI) یا فراتر از آن، اطمینان و ایمنی فرآیند، به ویژه در محیط های اکسیداسیون را تضمین می کند.
ویژگی های عملکردی
اکسیژن با خلوص بالا-به عنوان یک عامل اکسید کننده فوق- تمیز، واکنش دهنده یا گاز فرآیند عمل می کند. در ساخت نیمه هادی، در اکسیداسیون حرارتی برای رشد لایه های دی اکسید سیلیکون یکنواخت و در رسوب شیمیایی بخار (CVD) و اچ پلاسما استفاده می شود. در این نقش ها، ناخالصی ها می توانند نقص کریستالی ایجاد کنند یا سینتیک واکنش را تغییر دهند. به‌عنوان یک گاز قابل تنفس در برنامه‌های کاربردی تخصصی پزشکی و حیاتی{5}}، خلوص آن برای ایمنی بیمار بسیار مهم است. از طریق جداسازی هوای برودتی و به دنبال آن مراحل تصفیه اضافی مانند اکسیداسیون کاتالیزوری هیدروکربن‌ها، جذب و فیلتراسیون تولید می‌شود.
فیلدهای کاربردی اولیه
تولید نیمه هادی و الکترونیک
اکسیداسیون حرارتی، رسوب بخار شیمیایی (CVD)، اچ پلاسما، و خاکستر در ساخت تراشه. برای تولید DRAM، ابزارهای منطقی و MEMS حیاتی است.
فیبر نوری و شیشه تخصصی
سنتز{0}پریفرم‌های شیشه سیلیسی فوق‌العاده خالص برای فیبرهای نوری و تولید{1} شیشه صفحه نمایش با کیفیت بالا (مثلاً برای پانل‌های LCD/OLED).
داروسازی و بیوتکنولوژی
فرآیندهای تخمیر، کشت سلولی و به عنوان یک ماده خام در سنتز تحت شرایط سختگیرانه عملکرد خوب تولید (GMP).
مواد و تحقیقات پیشرفته
تولید ابررساناها، جوشکاری دقیق فلزات راکتیو (به عنوان مثال، تیتانیوم)، و استفاده در ابزارهای تحلیلی و تحقیقات جو کنترل شده.
مراقبت های بهداشتی تخصصی
جراحی لیزر، پزشکی هایپرباریک، و سیستم های پیشرفته پشتیبانی از زندگی که در آن خلوص گاز در درجه اول اهمیت است.
پرونده همکاری با مشتری
یک تولید کننده پیشرو سلول های فتوولتائیک پیشرفته برای کاربردهای فضایی با یک چالش حیاتی مواجه شد. فرآیند آنها برای رسوب یک لایه اکسید رسانای شفاف کلیدی به یک محیط اکسیداسیون بسیار کنترل شده نیاز داشت. ردیابی رطوبت و ناخالصی های هیدروکربنی در تامین اکسیژن استاندارد آنها باعث ناهماهنگی در چگالی لایه و خواص نوری شده و کارایی سلول را کاهش می دهد. ما با آنها همکاری کردیم تا یک منبع اختصاصی از اکسیژن درجه 5.5 با خلوص بالا (99.9995٪ خالص، با THC) را اجرا کنیم.<0.1 ppm and H₂O <0.5 ppm). We installed a point-of-use purifier and a closed-loop monitoring system to guarantee purity at the tool inlet. The switch to our high purity oxygen resulted in a dramatic improvement. The deposited films showed 40% fewer defects and a 15% increase in consistent light transmittance. This enhancement directly translated to a measurable increase in the power conversion efficiency and long-term reliability of their solar cells, securing a crucial contract for a major satellite program. This success underscored how our high purity oxygen was not just a utility but an enabling material for cutting-edge performance.
تگ های محبوب: اکسیژن با خلوص بالا-، چین- تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه با اکسیژن با خلوص بالا, گاز استاندارد دی اکسید کربن, گاز استاندارد مونوکسید کربن, گاز استاندارد هلیوم, اکسیژن با خلوص بالا, گاز استاندارد, گاز هگزافلورید گوگرد
